FOROB

BAYERISCHER FORSCHUNGSVERBUND FüR OBERFLäCHEN-, SCHICHT- UND TROCKNUNGSTECHNIK

IV.4 Chemische Dampfphasenabscheidung von dünnen ferroelektrischen Blei-Lanthan-Zirkonat-Titanat-Schichten bei Niederdruck

Arbeitsfeld:

Ziel:
Herstellung und Charakterisierung von dünnen ferroelektrischen Schichten auf Siliciumscheiben zur Integration in industriekompatible Prozesse.

Ergebnisse der bisherigen Forschungsarbeit:
Aufbau und Inbetriebnahme eines Reaktors zur Herstellung der Schichten sowie Abscheidung von Schichten. Charakterisierung der Schichten bezüglich ihrer chemischen Zusammensetzung und ihrem elektrischen Verhalten.

Der Reaktor ist ein unterdrucktauglicher, horizontalliegender Kaltwandreaktor, geeignet zur Aufnahme von zwei Siliciumscheiben im Industriestandard mit einem Durchmesser von max. 150mm. Eigenschaften und Verwendungszweck ferroelektrischer Schichten: - sehr hohe Dielektrizitätskonstante e
- Verwendung in zukünftigen DRAM- Generationen

- piezoelektrisches Verhalten
- Anwendung in monolithischen mikromechanischen Systemen als Aktor

- pyroelektrische Eigenschaften
- IR-Sensoren
- Sensoren zur

- ferroelektrische Eigenschaften, z.B P(E)-Hysterese
- Verwendung als Dielektrikum in nichtflüchtigen Speichern (NVRAMs)

- elektrooptische
- Anwendung in optischen Schaltern, Modulatoren